1、 設備要求:

　　A)鍍槽：PVC、ABS、聚乙烯襯槽

　　B)陽極：采用專用陽極及鈦鉤

　　C)溫度控制：采用鈦加熱管及鈦冷卻管裝置

　　D)整流器：9-15V，提供直流電，為使鍍液穩定建議配置安培小時積累計

　　2、 原料的功能及控制：

　　A) 開缸鹽：用于提高鍍液的比重，最佳值為26，每提高一個單位需加22克/升開缸鹽，濃度過高會引起鍍液結晶，使陽極鈍化及打氣管出現堵塞，濃度太低時，會影響鍍液導電性能。

　　B) 鉻鹽：補充鍍液所消耗的鉻離子，補充量為400-500克/1000安培小時。由于鉻鹽的溶解度較低，加入時須緩慢地逐少量加入，加入1克/升的鉻鹽，可提高0.15克/升的鉻含量。

　　C) 穩定劑：與三價鉻形成穩定的化合物，可去除鍍層上的黑紋使鍍層光亮、提高鍍液的深度能力，濃度過高會影響走位，過低出現黑色條紋鍍層，消耗量為1500-2000毫升/1000安培小時。

　　D) 濕潤劑：濃度過少會出現黑色鍍層。消耗量為60毫升/1000安培小時。

　　E) 絡合劑：可增大電流密度范圍，過多會增加鍍層黑度。

　　F) PH值：可用鹽酸或濃氨水調整PH值，每加入2毫升/升濃鹽酸鍍液PH值降低0.1每加入2毫升/升濃氨水鍍液PH值提高0.1加入鹽酸或氨水之后需攪拌2-4小時才可用PH機測試鍍液PH，PH過高三價鉻會沉淀。

　　G) 溫度：鍍液溫度較低時，鍍液深度能力較佳，但鍍層色澤較黑，沉積速度則下降，太低有沉淀析出。鍍液溫度較高時，鍍液的深鍍能力較差，但鍍層色澤較白，沉積速度則較快，太高嚴重影響鍍層覆蓋能力。

　　H) 生產中請按安培小時添加，并填寫記錄表。

　　3、 金屬雜質控制及影響：

　　當三價鉻鍍液受銅、鋅、鎳、鐵、鉛等金屬雜質污染時，鍍層的色澤及外觀會受到某程度影響。金屬雜質含量較高時，鍍層色澤偏黑。含量嚴重過多時，鍍層色澤不均，會出現黑影及黑條紋等情況。鍍液的帶入及工件從掛具上掉入槽中溶解是金屬雜質的主要來源。

　　鍍液維護：

　　A) 定期清缸，清理掉進缸底的工件，可有效防止金屬雜質對三價鉻鍍層色澤的影響。大部份金屬雜質如鋅、銅、鐵及鎳，加強過濾并做電解處理，即可清除。

　　B) 當鍍液受銅污染時，高電流區黑暗，隨著銅雜質濃度的增加，整個電流區黑暗。

　　C) 當鍍液受鋅10PPM污染時，鍍液的深鍍能力會下降，低位電流會出現白色污漬。含量過多時，中至低電流密度區會出現白色污漬。

　　D) 鍍液受鎳污染時，中電流區會出現棕黑色鍍層，當鍍液同時含有鐵雜質時低電流密度區會呈金色。

　　E) 鍍液受鉛離子污染時，低電流會出現白斑，鍍液的深鍍能力較差，含量過高時，高電流密度區鍍層結合力下降。采用電解的方法可去除鉛的污染。